ハロゲン系吸着ガスを用いた半導体表面の原子レベルエツチングとデポジシヨン

• Material Type: 図書
• Title: ハロゲン系吸着ガスを用いた半導体表面の原子レベルエツチングとデポジシヨン
• Title Transcription: ハロゲンケイ キュウチャク ガス オ モチイタ ハンドウタイ ヒョウメン ノ ゲンシ レベルエツチング ト デポジシヨン
• Author/Editor: 吉村, 雅満, 豊田工業大学
• Author Heading: 著者 ： 吉村, 雅満 ヨシムラ, マサミチ ( 01021529 )Authorities
• Publication Date: 1994-1996
• Publication Date (W3CDTF): 1994
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 一般研究(B)
• Subject Heading: ハロゲン分子 ハロゲンブンシ; シリコン シリコン; エツチング エツチング; デポジシヨン デポジシヨン; STM STM; 原子操作 ゲンシソウサ; 塩化アルミニウム エンカアルミニウム; 表面 ヒヨウメン
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 06452121
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H06452121
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006996030; http://id.ndl.go.jp/bib/000006996030
• Bibliographic Record Category (NDL): 214