薄膜の初期成長過程制御のためのモノレイヤー処理

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Material Type: 図書
Title: 薄膜の初期成長過程制御のためのモノレイヤー処理
Title Transcription: ハクマクノショキセイチョウカテイセイギョノタメノモノレイヤーショリ
Author/Editor: 小宮山, 宏, 東京大学
Author Heading: 小宮山, 宏, 1944- コミヤマ, ヒロシ, 1944- ( 00215918 )Authorities
Publication Date: 1994-1995
Publication Date (W3CDTF): 1994
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目一般研究(B)
Subject Heading: モノレイヤー処理モノレイヤーシヨリ
CVD CVD
ジメチルヒドラジンジメチルヒドラジン
初期成膜シヨキセイマク
核発生密度カクハツセイミツド
表面被覆率ヒヨウメンヒフクリツ
シリコン表面シリコンヒヨウメン
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 06453096
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H06453096
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000006996414
http://id.ndl.go.jp/bib/000006996414
Bibliographic Record Category (NDL): 214