高分子電子線レジスト反応の基礎研究

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Material Type: 図書
Title: 高分子電子線レジスト反応の基礎研究
Title Transcription: コウブンシデンシセンレジストハンノウノキソケンキュウ
Author/Editor: 吉田, 宏, 北海道大学
Author Heading: 吉田, 宏ヨシダ, ヒロシ
Publication Date: 1995-1997
Publication Date (W3CDTF): 1995
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(B)
Subject Heading: リソグラフイーリソグラフイー
レジストレジスト
高分子コウブンシ
放射線化学ホウシヤセンカガク
ポリシランポリシラン
ポリメタクリル酸メチルポリメタクリルサンメチル
シグマ共役シグマキヨウヤク
エネルギー移動エネルギーイドウ
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 07455335
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H07455335
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007003294
http://id.ndl.go.jp/bib/000007003294
Bibliographic Record Category (NDL): 214