多層構造LSIにおける配線孔接続のリフロープロセス解析

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Material Type: 図書
Title: 多層構造LSIにおける配線孔接続のリフロープロセス解析
Title Transcription: タソウコウゾウ LSI ニオケルハイセンコウセツゾクノリフロープロセスカイセキ
Author/Editor: 北村, 隆行, 京都大学
Author Heading: 北村, 隆行キタムラ, タカユキ
Publication Date: 1995-1996
Publication Date (W3CDTF): 1995
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Subject Heading: LSI LSI
多層配線タソウハイセン
ビア孔ビアコウ
リフローリフロー
表面拡散ヒヨウメンカクサン
計算機シミユレーシヨンケイサンキシミユレーシヨン
差分法サブンホウ
分子動力学ブンシドウリキガク
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 07650100
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H07650100
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007006905
http://id.ndl.go.jp/bib/000007006905
Bibliographic Record Category (NDL): 214