図書

超高周波フオノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究

Icons representing 図書

超高周波フオノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究

Call No. (NDL)
Y151-H08455149
Bibliographic ID of National Diet Library
000007011827
Material type
図書
Author
宮里, 達郎, 九州工業大学
Publisher
-
Publication date
1996-1997
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
View All

Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

Search by Bookstore

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
図書
Title Transcription
チョウコウシュウハ フオノン ニ ヨル シリコン チュウ ノ サンカ ユウキ セキソウ ケッカン ニ カンスル ケンキュウ
Author/Editor
宮里, 達郎, 九州工業大学
Author Heading
宮里, 達郎 ミヤサト, タツロウ
Publication Date
1996-1997
Publication Date (W3CDTF)
1996
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
フオノンパルス フオノンパルス
酸素誘起欠陥 サンソユウキケツカン
分解能 ブンカイノウ
フオノン散乱 フオノンサンラン
熱処理 ネツシヨリ
酸素濃度 サンソノウド
定量的測定 テイリヨウテキソクテイ