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電子ビームプロセスによる半導体表面の局所歪の制御

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電子ビームプロセスによる半導体表面の局所歪の制御

Call No. (NDL)
Y151-H08455153
Bibliographic ID of National Diet Library
000007011831
Material type
図書
Author
尾笹, 一成, 理化学研究所
Publisher
-
Publication date
1996-1997
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
デンシ ビームプロセス ニ ヨル ハンドウタイ ヒョウメン ノ キョクショ ワイ ノ セイギョ
Author/Editor
尾笹, 一成, 理化学研究所
Author Heading
尾笹, 一成 オザサ, カズナリ
Publication Date
1996-1997
Publication Date (W3CDTF)
1996
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
フツ化ガリウム フツカガリウム
フツ化インジウム フツカインジウム
電子線照射 デンシセンシヨウシヤ
表面歪 ヒヨウメンヒズミ
ヒ素とリンの置換 ヒソトリンノチカン
自己形成ドツト ジコケイセイドツト