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極低エネルギー電子による水素終端シリコン基板の表面修飾

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極低エネルギー電子による水素終端シリコン基板の表面修飾

Call No. (NDL)
Y151-H09450017
Bibliographic ID of National Diet Library
000007018264
Material type
図書
Author
尾浦, 憲冶郎, 大阪大学
Publisher
-
Publication date
1997-1998
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
ゴクテイ エネルギー デンシ ニ ヨル スイソ シュウ タン シリコン キバン ノ ヒョウメン シュウショク
Author/Editor
尾浦, 憲冶郎, 大阪大学
Author Heading
尾浦, 憲冶郎 オウラ, ケンジロウ
Publication Date
1997-1998
Publication Date (W3CDTF)
1997
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
電子刺激脱離 デンシシゲキダツリ
極低エネルギー電子 キヨクテイエネルギーデンシ
表面水素 ヒヨウメンスイソ
脱離断面積 ダツリダンメンセキ
水素終端 スイソシユウタン
イオンビーム イオンビーム