遠紫外光照射による高分子レジストの自己現像と乾式剥膜

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Material Type: 図書
Title: 遠紫外光照射による高分子レジストの自己現像と乾式剥膜
Title Transcription: エンシガイコウショウシャニヨルコウブンシレジストノジコゲンゾウトカンシキハクマク
Author/Editor: 杉田, 和之, 千葉大学
Author Heading: 杉田, 和之スギタ, カズユキ
Publication Date: 1987-1988
Publication Date (W3CDTF): 1987
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目一般研究(B)
Subject Heading: レジストレジスト
光エツチングヒカリエツチング
真空紫外光シンクウシガイコウ
光化学反応コウカガクハンノウ
表面光化学反応ヒヨウメンコウカガクハンノウ
リソグラフイーリソグラフイー
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 62470100
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-S62470100
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007030477
http://id.ndl.go.jp/bib/000007030477
Bibliographic Record Category (NDL): 214