半導体ドライプロセスの非接触評価技術開発に関する研究

Notes on use

Search by Bookstore

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 図書
Title: 半導体ドライプロセスの非接触評価技術開発に関する研究
Title Transcription: ハンドウタイドライプロセスノヒセッショクヒョウカギジュツカイハツニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 宇佐美, 晶, 名古屋工業大学
Author Heading: 宇佐美, 晶ウサミ, アキラ
Publication Date: 1987-1988
Publication Date (W3CDTF): 1987
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目一般研究(C)
Subject Heading: He Neレーザ光パルス HENEレーザコウパルス
表面再結合速度ヒヨウメンサイケツゴウソクド
過渡応答特性カトオウトウトクセイ
イオン注入工程イオンチユウニユウコウテイ
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 62550225
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-S62550225
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007031456
http://id.ndl.go.jp/bib/000007031456
Bibliographic Record Category (NDL): 214