高臨界温度Nb3(Ge,Si)薄膜を用いた高温動作接合型ジョセフソン素子の作製

• Material Type: 図書
• Title: 高臨界温度Nb3(Ge,Si)薄膜を用いた高温動作接合型ジョセフソン素子の作製
• Title Transcription: コウリンカイ オンド Nb3(Ge,Si)ハクマク オ モチイタ コウオン ドウサ セツゴウガタ ジョセフソン ソシ ノ サクセイ
• Author/Editor: 阿部正紀, 東京工業大学
• Author Heading: 阿部, 正紀 アベ, マサノリ
• Publication Date: 1983-1984
• Publication Date (W3CDTF): 1983; 1984
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 試験研究
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 58850057
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-S58850057
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007050786; http://id.ndl.go.jp/bib/000007050786
• Bibliographic Record Category (NDL): 214