ハロゲン原子によるSi表面単原子反応層形成とその低エネルギー除去に関する研究

• Material Type: 図書
• Title: ハロゲン原子によるSi表面単原子反応層形成とその低エネルギー除去に関する研究
• Title Transcription: ハロゲン ゲンシ ニ ヨル Si ヒョウメンタンゲンシ ハンノウソウ ケイセイ ト ソノ テイエネルギー ジョキョ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 堀池, 靖浩, 東京大学
• Author Heading: 堀池, 靖浩 ホリイケ, ヤスヒロ
• Publication Date: 1996-1998
• Publication Date (W3CDTF): 1996
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: フツ素 フツソ; 水素終端Si表面 スイソシユウタンSIヒヨウメン; フツ素終端Si表面 フツソシユウタンSIヒヨウメン; XPS XPS; 原子層エツチング ゲンシソウエツチング; 2原子層酸化 2ゲンシソウサンカ; 水素ラジカル スイソラジカル; (NH4) 2SiF6 (NH4) 2SIF6
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 08455022
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H08455022
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007063137; http://id.ndl.go.jp/bib/000007063137
• Bibliographic Record Category (NDL): 214