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図書

3C-SiC薄膜エピ成長における不純物酸素の影響に関する研究

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3C-SiC薄膜エピ成長における不純物酸素の影響に関する研究

Call No. (NDL)
Y151-H11650029
Bibliographic ID of National Diet Library
000007067130
Material type
図書
Author
孫, 勇, 九州工業大学
Publisher
-
Publication date
1999-2000
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
3C-SiC ハクマク エピ セイチョウ ニ オケル フジュンブツ サンソ ノ エイキョウ ニ カンスル ケンキュウ
Author/Editor
孫, 勇, 九州工業大学
Author Heading
孫, 勇 ソン, ユウ
Publication Date
1999-2000
Publication Date (W3CDTF)
1999
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(C)
Subject Heading
3C-SiC薄膜 3C-SICハクマク
エピタキシヤル成長 エピタキシヤルセイチヨウ
スパツタリング スパツタリング
水素プラズマ スイソプラズマ
不純物酸素 フジユンブツサンソ
ドーピング ドーピング
欠陥 ケツカン
成長メカニズム セイチヨウメカニズム