半導体エツチング過程のデブリ除去を目的とする噴流中でのレーザ照射衝撃波生成の研究

• Material Type: 図書
• Title: 半導体エツチング過程のデブリ除去を目的とする噴流中でのレーザ照射衝撃波生成の研究
• Title Transcription: ハンドウタイ エツチング カテイ ノ デブリ ジョキョ オ モクテキ ト スル フンリュウ チュウ デ ノ レーザ ショウシャ ショウゲキハ セイセイ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 斎藤, 務, 東北大学
• Author Heading: 斎藤, 務 サイトウ, ツトム
• Publication Date: 1999-2000
• Publication Date (W3CDTF): 1999
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(C)
• Subject Heading: 衝撃波 シヨウゲキハ; ダスト ダスト; 半導体製造装置 ハンドウタイセイゾウソウチ; 高速噴流 コウソクフンリユウ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 11650163
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H11650163
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007067300; http://id.ndl.go.jp/bib/000007067300
• Bibliographic Record Category (NDL): 214