次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発

Notes on use

Search by Bookstore

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 図書
Title: 次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発
Title Transcription: ジセダイチョウコウミツドデバイスヨウゴクウスゼツエンマクノカイハツ
Author/Editor: 尾嶋, 正治, 東京大学
Author Heading: 尾嶋, 正治オシマ, マサハル
Publication Date: 1998-2000
Publication Date (W3CDTF): 1998
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(B)
Subject Heading: シリコンシリコン
酸化膜サンカマク
放射光ホウシヤコウ
光電子分光コウデンシブンコウ
酸窒化膜サンチツカマク
ULSI ULSI
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 10555100
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H10555100
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007072071
http://id.ndl.go.jp/bib/000007072071
Bibliographic Record Category (NDL): 214