ステツプ配列制御による完全ステツプフリーシリコン/酸化膜界面の形成と評価

• Material Type: 図書
• Title: ステツプ配列制御による完全ステツプフリーシリコン/酸化膜界面の形成と評価
• Title Transcription: ステツプ ハイレツ セイギョ ニ ヨル カンゼン ステツプフリーシリコン/サンカマク カイメン ノ ケイセイ ト ヒョウカ
• Author/Editor: 須藤, 孝一, 大阪大学
• Author Heading: 須藤, 孝一 スドウ, コウイチ
• Publication Date: 2000-2001
• Publication Date (W3CDTF): 2000
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(C)
• Subject Heading: シリコン シリコン; シリコン酸化膜 シリコンサンカマク; 界面ラフネス カイメンラフネス; ステツプ ステツプ; 自己組織化 ジコソシキカ; 走査トンネル顕微鏡 ソウサトンネルケンビキヨウ; 表面ダイナミクス ヒヨウメンダイナミクス
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 12650029
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H12650029
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007076667; http://id.ndl.go.jp/bib/000007076667
• Bibliographic Record Category (NDL): 214