励起ガス雰囲気下の表面プロセスの光・イオンによる同時その場観察

• Material Type: 図書
• Title: 励起ガス雰囲気下の表面プロセスの光・イオンによる同時その場観察
• Title Transcription: レイキガス フンイキ カ ノ ヒョウメン プロセス ノ ヒカリ ・ イオン ニ ヨル ドウジ ソノ バ カンサツ
• Author/Editor: 片山, 光浩, 大阪大学
• Author Heading: 片山, 光浩 カタヤマ, ミツヒロ
• Publication Date: 2000-2002
• Publication Date (W3CDTF): 2000
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(A)
• Subject Heading: 励起ガス雰囲気下表面プロセス レイキガスフンイキカヒヨウメンプロセス; 低速イオン散乱反跳分光法 テイソクイオンサンランハンチヨウブンコウホウ; 全反射赤外分光法 ゼンハンシヤセキガイブンコウホウ; 表面水素 ヒヨウメンスイソ; 吸着状態 キユウチヤクジヨウタイ; プラズマ プラズマ; 励起原子照射 レイキゲンシシヨウシヤ; 表面窒化 ヒヨウメンチツカ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 12305005
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H12305005
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007084079; http://id.ndl.go.jp/bib/000007084079
• Bibliographic Record Category (NDL): 214