超高キャリア濃度半導体構造を用いた超低抵抗金属/半導体接合の形成

• Material Type: 図書
• Title: 超高キャリア濃度半導体構造を用いた超低抵抗金属/半導体接合の形成
• Title Transcription: チョウコウキャリア ノウド ハンドウタイ コウゾウ オ モチイタ チョウテイテイコウ キンゾク ハンドウタイ セツゴウ ノ ケイセイ
• Author/Editor: 室田淳一, 東北大学 [著]
• Author Heading: 室田, 淳一 ムロタ, ジュンイチ; 東北大学 トウホク ダイガク
• Publication, Distribution, etc.: [室田淳一]
• Publication Date: 2001-2003; 2004.3
• Publication Date (W3CDTF): 2001; 2003
• Extent: 106p
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(A)
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn; eng
• Subject Heading: IV族半導体 / 不純物ドーピング / 原子層 / 金属/半導体接触抵抗 / CVD / SiGeC / P / B IV ゾク ハンドウタイ / フジュンブツ ドーピング / ゲンシソウ / キンゾク/ハンドウタイ セッショク テイコウ / CVD / SiGeC / P / B
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 13355013
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H13355013
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007534884; http://id.ndl.go.jp/bib/000007534884
• Bibliographic Record Category (NDL): 214