ナノサイエンス・テクノロジーと放射光/中性子反射率法 : PF・KENS合同研究会

• Material Type: 図書
• Title: ナノサイエンス・テクノロジーと放射光/中性子反射率法 : PF・KENS合同研究会
• Title Transcription: ナノサイエンス テクノロジー ト ホウシャコウ チュウセイシ ハンシャリツホウ : PF KENS ゴウドウ ケンキュウカイ
• Author/Editor: 桜井健次, 平野馨一, 鳥飼直也 編
• Series Title: KEK proceedings ; 2004-5
• Author Heading: 桜井, 健次 サクライ, ケンジ ( 00976500 )Authorities; 平野, 馨一, 1963- ヒラノ, ケイイチ, 1963- ( 00905421 )Authorities; 鳥飼, 直也 トリカイ, ナオヤ ( 00976501 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: Tsukuba : 高エネルギー加速器研究機構
• Publication Date: 2004.8
• Publication Date (W3CDTF): 2004
• Extent: 84p
• Size: 30cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: サイクロトロン放射 サイクロトロンホウシャ ( 00570009 )Authorities; 中性子回折 チュウセイシカイセツ ( 00573933 )Authorities; ナノテクノロジー ナノテクノロジー ( 00907854 )Authorities
• NDC 9th ed.: 429 : Atomic and nuclear physics
• NDLC: MC211
• Target Audience: 一般
• Note (General): 会期: 2004年7月20日-21日
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: MC211-H16
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007557627; http://id.ndl.go.jp/bib/000007557627
• National Bibliography No. (JPNO): 20704878
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Contents: X線CTR散乱法と断面STMによるヘテロ界面形状の解析 / 竹田美和 ほか著水面高分子単分子膜のナノ構造 / 松岡秀樹 著中性子・X線反射率による磁性多層膜の磁気構造解析 / 平野辰巳, 武田全康 著...