Low temperature growth of polycrystalline silicon-germanium thin films by reactive thermal CVD and their application to thin film transistors

• Material Type: 博士論文
• Title: Low temperature growth of polycrystalline silicon-germanium thin films by reactive thermal CVD and their application to thin film transistors
• Author/Editor: 張建軍 [著]
• Author Heading: 張, 建軍 チョウ, ケングン
• Publication, Distribution, etc.: [張建軍]
• Publication Date: [2003]
• Publication Date (W3CDTF): 2003
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 反応性熱CVD法による多結晶シリコンゲルマニウム薄膜のTFT応用に関する研究 ハンノウセイ ネツ CVDホウ ニ ヨル タケッショウ シリコン ゲルマニウム ハクマク ノ TFT オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東京工業大学
• Date Granted: 平成15年3月26日
• Date Granted (W3CDTF): 2003
• Dissertation Number: 甲第5459号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• Alias of Author: Zhang, Jianjun
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2004-R581
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007649028; http://id.ndl.go.jp/bib/000007649028
• Bibliographic Record Category (NDL): 213