CVD(化学気相成長)法による薄膜形成とその半導体デバイスへの応用に関する研究

Notes on use

Search by Bookstore

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 博士論文
Title: CVD(化学気相成長)法による薄膜形成とその半導体デバイスへの応用に関する研究
Title Transcription: CVD カガクキソウセイチョウホウニヨルハクマクケイセイトソノハンドウタイデバイスエノオウヨウニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 前田和夫 [著]
Author Heading: 前田, 和夫マエダ, カズオ
Extent: 冊
Degree grantor/type: 東京大学
Date Granted: 昭和52年9月22日
Date Granted (W3CDTF): 1977
Dissertation Number: 乙第4367号
Degree Type: 工学博士
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-54-B111
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007668068
http://id.ndl.go.jp/bib/000007668068
Bibliographic Record Category (NDL): 213