図書

シリコンウェーハ表面のクリーン化技術 新版

Icons representing 図書

シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

新版

Call No. (NDL)
ND371-H82
Bibliographic ID of National Diet Library
000007691582
Material type
図書
Author
服部毅 編著
Publisher
リアライズ社
Publication date
2000.5
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
468, 12p ; 26cm
NDC
549.8
View All

Search by Bookstore

Table of Contents

  • ◇目次◇

  • 《第1章》 序論

    【服部毅】

  • 超LSI製造におけるクリーン化技術の現状と将来-シリコンウェーハ表面からの視点で-

  • 1. はじめに/ 3

  • 2. ウェーハ表面のクリーン化の重要性/ 4

Holdings of Libraries in Japan

This page shows libraries in Japan other than the National Diet Library that hold the material.

Please contact your local library for information on how to use materials or whether it is possible to request materials from the holding libraries.

other

  • CiNii Research

    Search Service
    Paper
    You can check the holdings of institutions and databases with which CiNii Research is linked at the site of CiNii Research.

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
図書
ISBN
4-89808-023-5
Title Transcription
シリコン ウェーハ ヒョウメン ノ クリーンカ ギジュツ
Author/Editor
服部毅 編著
Edition
新版
Author Heading
服部, 毅 ハットリ, タケシ ( 00387302 )Authorities
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
2000.5
Publication Date (W3CDTF)
2000