キヤノンアネルバ技報

• Material Type: 雑誌
• ISSN: 1880-7968
• ISSN-L: 1880-7968
• Title: キヤノンアネルバ技報
• Title Transcription: キャノン アネルバ ギホウ
• Volume: 12巻-14巻 2006年-2008年 (継続/以後休刊)
• Author Heading: キヤノンアネルバ株式会社 キャノン アネルバ カブシキ ガイシャ ( 01050060 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [府中 (東京都) ] : キヤノンアネルバ
• Publication Date: 2006-2008
• Publication Date (W3CDTF): 2006-2008
• Year and volume of publication: v. 12 (2006)-v. 14 (2008)
• Size: 30cm
• Alternative Title: Technical reports
• Key Title: Kyanon Aneruba gihou
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn; eng
• NDLC: ZM5
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z14-B382
• Replaces: 継続前; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000098969
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008035503; http://id.ndl.go.jp/bib/000008035503
• National Bibliography No. (JPNO): 01012765
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 131

Table of Contents

低損傷スパッタ成膜装置を用いた真空一貫メタル電極/高誘電率絶縁膜ゲートスタック作製技術の提案

C-9001 VHFプラズマCVD装置におけるSiON膜の膜質制御

スパッタ成膜分布に関連したシミュレーション

構造解析ツールを活用した大型真空チャンバーの開発

イオン付着イオン化・飛行時間質量分析装置(IA-TOF)の開発

超高/極高真空装置のための真空材料の新展開--超低ガス放出チタン材料製真空装置の開発

キヤノンアネルバ株式会社における超高真空技術

パネルデバイスとキヤノンアネルバの成膜装置

CoFeB/MgO/CoFeBトンネル接合を用いた超低抵抗TMR素子の開発

大型基板用スパッタ装置におけるマルチマグネットカソード(MMC)の応用

金属スピントロニクス素子の新しい展開--スピントルクダイオード

MgO障壁層を用いたトンネル磁気抵抗素子の開発

高均一成膜スパッタ装置

極薄SiGeバッファー層を用いたSi(100)基板上へのGeヘテロエピタキシャル成長

大型基板用スパッタ装置におけるマルチマグネットカソード(MMC)の特徴