極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第8回研究会

• Material Type: 図書
• Title: 極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第8回研究会
• Title Transcription: ゴクウス シリコン サンカマク ノ ケイセイ ヒョウカ シンライセイ : ハクマク ヒョウメン ブツリ ブンカカイ シリコン テクノロジー ブンカカイ キョウサイ トクベツ ケンキュウカイ ケンキュウ ホウコク : ダイ 8カイ ケンキュウカイ
• Author/Editor: 応用物理学会薄膜・表面物理分科会, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 編
• Series Title: AP ; 032203
• Author Heading: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : 応用物理学会薄膜・表面物理分科会
• Publication Date: 2003.1
• Publication Date (W3CDTF): 2003
• Extent: 318p
• Size: 26cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: シリコン (半導体)--論文集 シリコン (ハンドウタイ) ロンブンシュウ ( 01030374 )Authorities; 薄膜--論文集 ハクマク ロンブンシュウ ( 00810447 )Authorities
• NDC 9th ed.: 549.8 : Electronic engineering
• NDLC: ND371
• Target Audience: 一般
• Note (General): 会期・会場: 2003年1月24-25日 熱川ハイツ; 共同刊行: 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
• Price: 1500円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND371-H113
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008059810; http://id.ndl.go.jp/bib/000008059810
• National Bibliography No. (JPNO): 20970403
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Contents: Understanding atomic deposited HfO2 as a gate dielectric / M.L.Green ほか著50nm以下の領域へのCMOSのスケーリングとそのための必要プロセス技術 / 岩井洋 著90nmノードの低待機時消費電力用途(Low Standby Pow...