超薄高誘電率ゲート絶縁膜におけるシリコンとの界面制御の研究

• Material Type: 図書
• Title: 超薄高誘電率ゲート絶縁膜におけるシリコンとの界面制御の研究
• Title Transcription: チョウハク コウユウデンリツ ゲート ゼツエンマク ニ オケル シリコン ト ノ カイメン セイギョ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 鳥海明, 東京大学 [著]
• Author Heading: 鳥海, 明 トリウミ, アキラ; 東京大学 トウキョウ ダイガク
• Publication, Distribution, etc.: [鳥海明]
• Publication Date: 2001-2005; 2006.5
• Publication Date (W3CDTF): 2001; 2005
• Extent: 225p
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(S)
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn; eng
• Subject Heading: 高誘電率絶縁膜 / High-k膜 / HfO_2 / Y-doped HfO_2 / 遠赤外特性 / LaYO_3薄膜 / Y_2O_3 on Ge / 界面層 コウユウデンリツ ゼツエンマク / High-kマク / HfO_2 / Y-doped HfO_2 / エンセキガイ トクセイ / LaYO_3 ハクマク / Y_2O_3 on Ge / カイメンソウ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 13852009
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H13852009
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008343746; http://id.ndl.go.jp/bib/000008343746
• Bibliographic Record Category (NDL): 214