ゲート酸化膜の薄膜化に対応した高誘電率膜形成と界面清浄化技術の研究

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Material Type: 博士論文
Title: ゲート酸化膜の薄膜化に対応した高誘電率膜形成と界面清浄化技術の研究
Title Transcription: ゲートサンカマクノハクマクカニタイオウシタコウユウデンリツマクケイセイトカイメンセイジョウカギジュツノケンキュウ
Author/Editor: 宮博信 [著]
Author Heading: 宮, 博信ミヤ, ヒロノブ
Publication, Distribution, etc.: [宮博信]
Publication Date: 2004
Publication Date (W3CDTF): 2004
Extent: 1冊
Alternative Title: Study on high-dielectric constant film formation and interface cleaning technology for ultra thin gate oxide
Degree grantor/type: 広島大学
Date Granted: 平成16年12月17日
Date Granted (W3CDTF): 2004
Dissertation Number: 甲第3448号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2006-N8
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000008376234
http://id.ndl.go.jp/bib/000008376234
Bibliographic Record Category (NDL): 213