省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の自己整合プロセス開発

Call No. (NDL): Y151-H16360156
Bibliographic ID of National Diet Library: 000008398298

Material type: 図書

Author: 中島寛, 九州大学 [著]

Publisher: [中島寛]

Publication date: 2004-2005

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 60p

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Note (General)：: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書

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Material Type: 図書
Title: 省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の自己整合プロセス開発
Title Transcription: ショウデンリョク LSIヨウコウユウデンリツゲートゼツエンマクノジコセイゴウプロセスカイハツ
Author/Editor: 中島寛, 九州大学 [著]
Author Heading: 中島, 寛ナカシマ, ヒロシ
九州大学キュウシュウダイガク
Publication, Distribution, etc.: [中島寛]
Publication Date: 2004-2005
2006.3
Publication Date (W3CDTF): 2004
2005
Extent: 60p
Additional Title: 研究種目基盤研究(B)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
eng
Subject Heading: シリコン / 高誘電率絶縁膜 / 電子サイクロトロン共鳴プラズマ / 酸化膜 / 窒化膜 / 省電力LSI / Hf酸化膜シリコン / コウユウデンリツゼツエンマク / デンシサイクロトロンキョウメイプラズマ / サンカマク / チッカマク / ショウデンリョク LSI / Hf サンカマク
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 16360156
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H16360156
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000008398298
http://id.ndl.go.jp/bib/000008398298
Bibliographic Record Category (NDL): 214