Development of novel resist process for nano-scale devices

• Material Type: 博士論文
• Title: Development of novel resist process for nano-scale devices
• Author/Editor: Keiji Watanabe [著]
• Author Heading: 渡部, 慶二 ワタナベ, ケイジ
• Publication, Distribution, etc.: [Keiji Watanabe]
• Publication Date: [2006]
• Publication Date (W3CDTF): 2006
• Extent: 1冊
• Alternative Title: ナノスケールのデバイスに向けた新規レジストプロセスの開発 ナノスケール ノ デバイス ニ ムケタ シンキ レジスト プロセス ノ カイハツ
• Degree grantor/type: 東京農工大学
• Date Granted: 平成18年3月24日
• Date Granted (W3CDTF): 2006
• Dissertation Number: 生甲第110号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2006-U595
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008474297; http://id.ndl.go.jp/bib/000008474297
• Bibliographic Record Category (NDL): 213