化学気相堆積法によるニッケルおよびニッケルシリサイド成膜に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 化学気相堆積法によるニッケルおよびニッケルシリサイド成膜に関する研究
Title Transcription: カガクキソウタイセキホウニヨルニッケルオヨビニッケルシリサイドセイマクニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 石川真人 [著]
Author Heading: 石川, 真人イシカワ, マサト
Publication, Distribution, etc.: [石川真人]
Publication Date: [2007]
Publication Date (W3CDTF): 2007
Extent: 1冊
Alternative Title: Study on nickel and nickel-silicide thin film growth by chemical vapor deposition
Degree grantor/type: 明治大学
Date Granted: 平成19年3月26日
Date Granted (W3CDTF): 2007
Dissertation Number: 甲第412号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2007-C633
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000008524189
http://id.ndl.go.jp/bib/000008524189
Bibliographic Record Category (NDL): 213