シリコン酸化膜還元法を用いたエピタキシャルγ-Al2O3薄膜の成長とデバイス応用に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: シリコン酸化膜還元法を用いたエピタキシャルγ-Al2O3薄膜の成長とデバイス応用に関する研究
• Title Transcription: シリコン サンカマク カンゲンホウ オ モチイタ エピタキシャル ガンマ - Al2O3 ハクマク ノ セイチョウ ト デバイス オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 岡田貴行 [著]
• Author Heading: 岡田, 貴行 オカダ, タカユキ
• Publication, Distribution, etc.: [岡田貴行]
• Publication Date: [2007]
• Publication Date (W3CDTF): 2007
• Extent: 1冊
• Degree grantor/type: 豊橋技術科学大学
• Date Granted: 平成19年3月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2007
• Dissertation Number: 甲第478号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2007-G460
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008600806; http://id.ndl.go.jp/bib/000008600806
• Bibliographic Record Category (NDL): 213