Suppression of thermal interface degradation in high-k gate dielectrics/silicon by helium process

• Material Type: 博士論文
• Title: Suppression of thermal interface degradation in high-k gate dielectrics/silicon by helium process
• Author/Editor: Kouichi Muraoka [著]
• Author Heading: 村岡, 浩一 ムラオカ, コウイチ
• Publication, Distribution, etc.: [Kouichi Muraoka]
• Publication Date: [2006]
• Publication Date (W3CDTF): 2006
• Extent: 1冊
• Alternative Title: ヘリウムプロセスによるHigh-kゲート絶縁膜/シリコン界面の熱劣化抑制 ヘリウム プロセス ニ ヨル High-k ゲート ゼツエンマク シリコン カイメン ノ ネツ レッカ ヨクセイ
• Degree grantor/type: 広島大学
• Date Granted: 平成18年12月22日
• Date Granted (W3CDTF): 2006
• Dissertation Number: 乙第3946号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2007-K335
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008949638; http://id.ndl.go.jp/bib/000008949638
• Bibliographic Record Category (NDL): 213