フリージェットCVDを用いたSiC/Siヘテロナノ構造形成プロセスに関する基礎的研究

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Material Type: 博士論文
Title: フリージェットCVDを用いたSiC/Siヘテロナノ構造形成プロセスに関する基礎的研究
Title Transcription: フリージェット CVD オモチイタ SiC Si ヘテロナノコウゾウケイセイプロセスニカンスルキソテキケンキュウ
Author/Editor: 大谷亮太 [著]
Author Heading: 大谷, 亮太オオタニ, リョウタ
Publication, Distribution, etc.: [大谷亮太]
Publication Date: [2007]
Publication Date (W3CDTF): 2007
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 九州大学
Date Granted: 平成19年3月26日
Date Granted (W3CDTF): 2007
Dissertation Number: 甲第8319号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2007-K771
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000008973163
http://id.ndl.go.jp/bib/000008973163
Bibliographic Record Category (NDL): 213