ナノ・プロセスに対応する半導体洗浄技術の基礎と課題 (フォーカスレポート = Focus report ; 25)

ナノ・プロセスに対応する半導体洗浄技術の基礎と課題

(フォーカスレポート = Focus report ; 25)

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Material Type: 図書
ISBN: 978-4-901790-57-4
Title: ナノ・プロセスに対応する半導体洗浄技術の基礎と課題
Title Transcription: ナノプロセスニタイオウスルハンドウタイセンジョウギジュツノキソトカダイ
Author/Editor: 青木秀充著
Series Title: フォーカスレポート = Focus report ; 25
Author Heading: 青木, 秀充アオキ, ヒデミツ ( 01102267 )Authorities
Publication, Distribution, etc.: 東京 : EDリサーチ社
Publication Date: 2007.4
Publication Date (W3CDTF): 2007
Extent: 105p
Size: 26cm
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: 半導体ハンドウタイ ( 00562913 )Authorities
洗浄センジョウ ( 01196145 )Authorities
NDC 9th ed.: 549.8 : Electronic engineering
NDLC: ND371
Target Audience: 一般
Note (Bibliography): 文献あり
Price: 5000円
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: ND371-H181
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009084169
http://id.ndl.go.jp/bib/000009084169
National Bibliography No. (JPNO): 21295528
Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
Bibliographic Record Category (NDL): 111