高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成

Call No. (NDL): Y151-H17560009
Bibliographic ID of National Diet Library: 000009316335

Material type: 図書

Author: 和泉亮, 九州工業大学 [著]

Publisher: [和泉亮]

Publication date: 2005-2006

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 44p

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Note (General)：: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書

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Material Type: 図書
Title: 高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成
Title Transcription: コウミツドラジカルショリホウニヨルキバンヒョウメンノチョウシンスイカトコウヒンシツゼツエンマクノケイセイ
Author/Editor: 和泉亮, 九州工業大学 [著]
Author Heading: 和泉, 亮イズミ, アキラ
九州工業大学キュウシュウコウギョウダイガク
Publication, Distribution, etc.: [和泉亮]
Publication Date: 2005-2006
2007.4
Publication Date (W3CDTF): 2005
2006
Extent: 44p
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: ホットワイヤー / 表面窒化 / アンモニア分解種 / シリコン窒化膜 / ヘキサメチルジシラザン / シリコン炭窒化膜ホットワイヤー / ヒョウメンチッカ / アンモニアブンカイシュ / シリコンチッカマク / ヘキサメチルジシラザン / シリコンタンチッカマク
NDLC: Y151
Note (General): 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 17560009
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H17560009
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009316335
http://id.ndl.go.jp/bib/000009316335
Bibliographic Record Category (NDL): 214