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高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成

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高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成

Call No. (NDL)
Y151-H17560009
Bibliographic ID of National Diet Library
000009316335
Material type
図書
Author
和泉亮, 九州工業大学 [著]
Publisher
[和泉亮]
Publication date
2005-2006
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
44p
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
コウミツド ラジカル ショリホウ ニ ヨル キバン ヒョウメン ノ チョウシンスイカ ト コウヒンシツ ゼツエンマク ノ ケイセイ
Author/Editor
和泉亮, 九州工業大学 [著]
Author Heading
和泉, 亮 イズミ, アキラ
九州工業大学 キュウシュウ コウギョウ ダイガク
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
2005-2006
2007.4
Publication Date (W3CDTF)
2005
2006
Extent
44p
Additional Title
研究種目 基盤研究(C)