A study on modeling of chemical characteristics of strain-induced silicon wafer surfaces

• Material Type: 博士論文
• Title: A study on modeling of chemical characteristics of strain-induced silicon wafer surfaces
• Author/Editor: Kaoruho Sakata [著]
• Author Heading: 阪田, 薫穂 サカタ, カオルホ
• Publication, Distribution, etc.: [Kaoruho Sakata]
• Publication Date: [2008]
• Publication Date (W3CDTF): 2008
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 歪みシリコンウェハ表面の化学特性のモデリングに対する研究 ヒズミ シリコン ウェハ ヒョウメン ノ カガク トクセイ ノ モデリング ニ タイスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 早稲田大学
• Date Granted: 平成20年3月15日
• Date Granted (W3CDTF): 2008
• Dissertation Number: 甲第2597号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2008-B872
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000009364667; http://id.ndl.go.jp/bib/000009364667
• Bibliographic Record Category (NDL): 213