Resist design for next-generation lithography based on reaction induced by ionizing radiation in thin films

• Material Type: 博士論文
• Title: Resist design for next-generation lithography based on reaction induced by ionizing radiation in thin films
• Author/Editor: Hiroki Yamamoto [著]
• Author Heading: 山本, 洋揮 ヤマモト, ヒロキ
• Publication, Distribution, etc.: [Hiroki Yamamoto]
• Publication Date: [2008]
• Publication Date (W3CDTF): 2008
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 薄膜中の放射線誘起反応に基づいた次世代リソグラフィ用レジストの設計 ハクマクチュウ ノ ホウシャセン ユウキ ハンノウ ニ モトズイタ ジセダイ リソグラフィヨウ レジスト ノ セッケイ
• Degree grantor/type: 大阪大学
• Date Granted: 平成20年2月29日
• Date Granted (W3CDTF): 2008
• Dissertation Number: 甲第12272号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2008-D121
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000009401976; http://id.ndl.go.jp/bib/000009401976
• Bibliographic Record Category (NDL): 213