シリコン半導体デバイス表面処理プロセスに関する研究

シリコン半導体デバイス表面処理プロセスに関する研究

Call No. (NDL): UT51-2008-F408
Bibliographic ID of National Diet Library: 000009438281

Material type: 博士論文

Author: 井川修 [著]

Publisher: [井川修]

Publication date: [2008]

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 1冊

Name of awarding university/degree: 山梨大学,博士 (工学)

Notes on use

Note (General)：: 博士論文

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type: 博士論文
Title: シリコン半導体デバイス表面処理プロセスに関する研究
Title Transcription: シリコンハンドウタイデバイスヒョウメンショリプロセスニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 井川修 [著]
Author Heading: 井川, 修イカワ, オサム
Publication, Distribution, etc.: [井川修]
Publication Date: [2008]
Publication Date (W3CDTF): 2008
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 山梨大学
Date Granted: 平成20年3月19日
Date Granted (W3CDTF): 2008
Dissertation Number: 甲第159号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2008-F408
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009438281
http://id.ndl.go.jp/bib/000009438281
Bibliographic Record Category (NDL): 213