高誘電率材料を用いたゲート絶縁膜の作製とその評価に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 高誘電率材料を用いたゲート絶縁膜の作製とその評価に関する研究
Title Transcription: コウユウデンリツザイリョウオモチイタゲートゼツエンマクノサクセイトソノヒョウカニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 長里喜隆 [著]
Author Heading: 長里, 喜隆ナガサト, ヨシタカ
Publication, Distribution, etc.: [長里喜隆]
Publication Date: [2008]
Publication Date (W3CDTF): 2008
Extent: 1冊
Alternative Title: A study for fabrication and evaluation of gate dielectric thin films using high-k materials
Degree grantor/type: 東京農工大学
Date Granted: 平成20年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2008
Dissertation Number: 甲第567号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2008-F959
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009440697
http://id.ndl.go.jp/bib/000009440697
Bibliographic Record Category (NDL): 213