Study of multiscale analysis of silicon low-pressure chemical vapor deposition

• Material Type: 博士論文
• Title: Study of multiscale analysis of silicon low-pressure chemical vapor deposition
• Author/Editor: Shigeru Kinoshita [著]
• Author Heading: 木下, 繁 キノシタ, シゲル
• Publication, Distribution, etc.: [Shigeru Kinoshita]
• Publication Date: [2007]
• Publication Date (W3CDTF): 2007
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 低圧化学気相成長法によるシリコン成膜プロセスのマルチスケール解析の研究 テイアツ カガク キソウ セイチョウホウ ニ ヨル シリコン セイマク プロセス ノ マルチスケール カイセキ ノ ケンキュウ
• Degree grantor/type: 横浜市立大学
• Date Granted: 平成19年6月30日
• Date Granted (W3CDTF): 2007
• Dissertation Number: 甲第899号
• Degree Type: 博士 (理学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2008-H902
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000009579738; http://id.ndl.go.jp/bib/000009579738
• Bibliographic Record Category (NDL): 213