ハイドライド気相成長法によるCrN緩衝層を用いたGaN自立厚膜の作製と評価

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Material Type: 博士論文
Title: ハイドライド気相成長法によるCrN緩衝層を用いたGaN自立厚膜の作製と評価
Title Transcription: ハイドライドキソウセイチョウホウニヨル CrN カンショウソウオモチイタ GaN ジリツアツマクノサクセイトヒョウカ
Author/Editor: 後藤裕輝 [著]
Author Heading: 後藤, 裕輝ゴトウ, ヒロキ
Publication, Distribution, etc.: [後藤裕輝]
Publication Date: [2008]
Publication Date (W3CDTF): 2008
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東北大学
Date Granted: 平成20年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2008
Dissertation Number: 甲第12259号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2008-J419
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009630321
http://id.ndl.go.jp/bib/000009630321
Bibliographic Record Category (NDL): 213