Development of low-k1 lithography process

• Material Type: 博士論文
• Title: Development of low-k1 lithography process
• Author/Editor: Hiroko Nakamura [著]
• Author Heading: 中村, 裕子 ナカムラ, ヒロコ
• Publication, Distribution, etc.: [Hiroko Nakamura]
• Publication Date: [2008]
• Publication Date (W3CDTF): 2008
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 半導体リソグラフィーにおける微細パターン形成プロセスの開発 ハンドウタイ リソグラフィー ニ オケル ビサイ パターン ケイセイ プロセス ノ カイハツ
• Degree grantor/type: 東京大学
• Date Granted: 平成20年6月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2008
• Dissertation Number: 乙第16976号
• Degree Type: 博士 (理学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2009-R205
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000010761282; http://id.ndl.go.jp/bib/000010761282
• Bibliographic Record Category (NDL): 213