半導体における光励起プロセスの基礎(総括班)

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Material Type: 図書
Title: 半導体における光励起プロセスの基礎(総括班)
Title Transcription: ハンドウタイニオケルヒカリレイキプロセスノキソ ( ソウカツハン )
Author/Editor: 高橋清, 東京工業大学 [著]
Author Heading: 高橋, 清, 1934- タカハシ, キヨシ, 1934- ( 00077797 )Authorities
東京工業大学トウキョウコウギョウダイガク
Publication, Distribution, etc.: [高橋清]
Publication Date: 1992-1993
1993.10
Publication Date (W3CDTF): 1992
1993
Extent: 540p
Additional Title: 研究種目重点領域研究
研究領域名半導体における光励起プロセスの基礎(光励起プロセス)
Photo-Excited Process final reports
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: eng
Subject Heading: 光励起プロセスヒカリレイキプロセス
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 04223103
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-ZY209-007
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000011030428
http://id.ndl.go.jp/bib/000011030428
Bibliographic Record Category (NDL): 214