High rate deposition of highly stable a-Si:H films by cluster-controlled plasma chemical vapor deposition

• Material Type: 博士論文
• Title: High rate deposition of highly stable a-Si:H films by cluster-controlled plasma chemical vapor deposition
• Author/Editor: William Makoto Nakamura [著]
• Author Heading: 中村ウィリアム誠 ナカムラ ウィリアム マコト
• Publication, Distribution, etc.: [William Makoto Nakamura]
• Publication Date: [2010]
• Publication Date (W3CDTF): 2010
• Extent: 1冊
• Alternative Title: クラスタ制御プラズマ化学堆積による高安定a-Si:H薄膜の高速堆積 クラスタ セイギョ プラズマ カガク タイセキ ニ ヨル コウアンテイ a-Si:H ハクマク ノ コウソク タイセキ
• Degree grantor/type: 九州大学
• Date Granted: 平成22年9月27日
• Date Granted (W3CDTF): 2010
• Dissertation Number: 甲第10033号
• Degree Type: 博士 (学術)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• Alias of Author: William Makoto Nakamura
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2010-P815
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000011117924; http://id.ndl.go.jp/bib/000011117924
• Bibliographic Record Category (NDL): 213