Study on advanced lithography techniques using scanning probe microscopy for fabrication of nanoscale Si devices

• Material Type: 博士論文
• Title: Study on advanced lithography techniques using scanning probe microscopy for fabrication of nanoscale Si devices
• Author/Editor: Shinya Nishimura [著]
• Author Heading: 西村, 信也 ニシムラ, シンヤ
• Publication, Distribution, etc.: [Shinya Nishimura]
• Publication Date: [2011]
• Publication Date (W3CDTF): 2011
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 走査型プローブ顕微鏡を用いた新しい微細加工技術の開発とナノスケールSiデバイスへの適用に関する研究 ソウサガタ プローブ ケンビキョウ オ モチイタ アタラシイ ビサイ カコウ ギジュツ ノ カイハツ ト ナノスケール Si デバイス エ ノ テキヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東京農工大学
• Date Granted: 平成23年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 2011
• Dissertation Number: 甲第729号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2011-H329
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000011295472; http://id.ndl.go.jp/bib/000011295472
• Bibliographic Record Category (NDL): 213