Research on ion implantation damage of the materials for the next generation semiconductor device

• Material Type: 博士論文
• Title: Research on ion implantation damage of the materials for the next generation semiconductor device
• Author/Editor: Satoshi Shibata [著]
• Author Heading: 柴田, 聡 シバタ, サトシ
• Publication, Distribution, etc.: [Satoshi Shibata]
• Publication Date: [2011]
• Publication Date (W3CDTF): 2011
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 次世代半導体材料のイオン注入損傷に関する研究 ジセダイ ハンドウタイ ザイリョウ ノ イオン チュウニュウ ソンショウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 神戸大学
• Date Granted: 平成23年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 2011
• Dissertation Number: 甲第5305号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2011-J685
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 023253406; http://id.ndl.go.jp/bib/023253406
• Bibliographic Record Category (NDL): 213