エキシマレーザを用いた酸化物半導体薄膜トランジスタの低温形成に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: エキシマレーザを用いた酸化物半導体薄膜トランジスタの低温形成に関する研究
Title Transcription: エキシマレーザオモチイタサンカブツハンドウタイハクマクトランジスタノテイオンケイセイニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 中田充 [著]
Author Heading: 中田, 充ナカタ, ミツル
Publication, Distribution, etc.: [中田充]
Publication Date: [2010]
Publication Date (W3CDTF): 2010
Extent: 1冊
Alternative Title: Study on low-temperature fabrication of oxide semiconductor thin-film transistors utilizing excimer laser
Degree grantor/type: 東京工業大学
Date Granted: 平成22年3月26日
Date Granted (W3CDTF): 2010
Dissertation Number: 甲第8051号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2011-K317
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 023314720
http://id.ndl.go.jp/bib/023314720
Bibliographic Record Category (NDL): 213