新規半導体製造プロセス開発のための結晶成長による埋め込み形状制御に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 新規半導体製造プロセス開発のための結晶成長による埋め込み形状制御に関する研究
Title Transcription: シンキハンドウタイセイゾウプロセスカイハツノタメノケッショウセイチョウニヨルウメコミケイジョウセイギョニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 加藤寿 [著]
Author Heading: 加藤, 寿カトウ, ヒトシ
Publication, Distribution, etc.: [加藤寿]
Publication Date: [2011]
Publication Date (W3CDTF): 2011
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 岩手大学
Date Granted: 平成23年9月26日
Date Granted (W3CDTF): 2011
Dissertation Number: 甲第208号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2011-Q479
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 023529922
http://id.ndl.go.jp/bib/023529922
Bibliographic Record Category (NDL): 213