Formation of silicon nanocrystals by thermal plasma jet induced millisecond annealing and its application to floating-gate memories

• Material Type: 博士論文
• Title: Formation of silicon nanocrystals by thermal plasma jet induced millisecond annealing and its application to floating-gate memories
• Author/Editor: Tatsuya Okada [著]
• Author Heading: 岡田, 竜弥 オカダ, タツヤ
• Publication, Distribution, etc.: [Tatsuya Okada]
• Publication Date: [2009]
• Publication Date (W3CDTF): 2009
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるシリコンナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用 ネツ プラズマ ジェット ショウシャ ミリビョウ ネツ ショリ ニ ヨル シリコン ナノ ケッショウ ケイセイ ト ソノ フローティング ゲート メモリ オウヨウ
• Degree grantor/type: 広島大学
• Date Granted: 平成21年9月7日
• Date Granted (W3CDTF): 2009
• Dissertation Number: 甲第5007号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2012-G294
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 023907964; http://id.ndl.go.jp/bib/023907964
• Bibliographic Record Category (NDL): 213