Interface engineering of hafnium-based high-K dielectrics and germanium channel

• Material Type: 博士論文
• Title: Interface engineering of hafnium-based high-K dielectrics and germanium channel
• Author/Editor: Yusuke Oniki [著]
• Author Heading: 鬼木, 悠丞 オニキ, ユウスケ
• Publication, Distribution, etc.: [Yusuke Oniki]
• Publication Date: [2012]
• Publication Date (W3CDTF): 2012
• Extent: 1冊
• Alternative Title: ハフニウム系高誘電率ゲート絶縁膜とゲルマニウムチャネルの界面制御に関する研究 ハフニウムケイ コウユウデンリツ ゲート ゼツエンマク ト ゲルマニウム チャネル ノ カイメン セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東京農工大学
• Date Granted: 平成24年3月27日
• Date Granted (W3CDTF): 2012
• Dissertation Number: 甲第769号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2012-G261
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 023910000; http://id.ndl.go.jp/bib/023910000
• Bibliographic Record Category (NDL): 213