A study on atomic order flattening technology of Si wafer and its application

• Material Type: 博士論文
• Title: A study on atomic order flattening technology of Si wafer and its application
• Author/Editor: Xiang Li [著]
• Author Heading: 李, 翔 リ, ショウ
• Publication, Distribution, etc.: [Xiang Li]
• Publication Date: [2011]
• Publication Date (W3CDTF): 2011
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 原子オーダ平坦化シリコンの形成方法とその応用に関する研究 ゲンシ オーダ ヘイタンカ シリコン ノ ケイセイ ホウホウ ト ソノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成23年9月14日
• Date Granted (W3CDTF): 2011
• Dissertation Number: 甲第14298号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2012-J117
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 024012998; http://id.ndl.go.jp/bib/024012998
• Bibliographic Record Category (NDL): 213