シリコン基板上立方晶炭化ケイ素薄膜の低温・高速エピタキシャル成長に関する研究

Notes on use

Search by Bookstore

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 博士論文
Title: シリコン基板上立方晶炭化ケイ素薄膜の低温・高速エピタキシャル成長に関する研究
Title Transcription: シリコンキバンジョウリッポウショウタンカケイソハクマクノテイオンコウソクエピタキシャルセイチョウニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 齋藤英司 [著]
Author Heading: 齋藤, 英司サイトウ, エイジ
Publication, Distribution, etc.: [齋藤英司]
Publication Date: [2012]
Publication Date (W3CDTF): 2012
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東北大学
Date Granted: 平成24年3月27日
Date Granted (W3CDTF): 2012
Dissertation Number: 甲第14614号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2012-J428
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 024020574
http://id.ndl.go.jp/bib/024020574
Bibliographic Record Category (NDL): 213